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聯使用。這0.63時(1.6毫米)厚、180°扇形直接安裝在帶通瀘光器上面。裝配好的瀘光器見圖4.表準直輻射和零狹縫寬的平均半功率帶寬對6.5一1.3微米扇形是0.9%，對12.5一24微米扇形是2.21%。對非零狹縫寬和f/1錐，分辨率下降到2.7一4.3%如表Ⅱ所給出。
不透明遮蔽扇用來復蓋兩扇形之間的聯接。在360°連接處遮蔽扇是20°寬，限制瀘光器中心波長是每個瀘光器扇形角旋轉的線性函數。表Ⅱ給了對于一些選用波長的掃描全程百分比中。
整個光學部分，包括探測器、瀘光器、透鏡與擋殼，冷卻到液氨溫度。液氨把附屬的探測器冷卻到這樣低背景條件下的操作造
成提高了的1性能特征，由于在這樣低溫下沒有背景噪音。
系統用一個瓦阻抗反饋放大器(TIA) 2是一個反饋電阻，限制約80赫以下的噪音，在更高頻率系統依靠前置放大器限制噪音。
由旋轉CVF加給電帶寬要求大致為50赫。這通過考慮系統響應單分辨元素所須時間來達到。由輸出低通瀘波器決定系統的帶寬是
探測器達到的理論的22微米噪音等效功率大約由下式給出：標準CVF是直徑4吋(10厘米) ， 由兩個180°扇形組成。 0-180°扇形基底是由(4kT)1/NEP=R.CRi=1.5×10-160.125吋(3毫米)厚的鍺制成，鍍膜提供從6.5微米到13微米連續掃描。這扇形需(W/赫)要一個氟化鋇擋板串聯使用。這工作用兩個90°扇形3毫米厚直接裝在瀘光器上面來完其中k=玻耳茲曼常數(W厘米-2K+)，T=溫度(K)
180一360°扇形用3毫米厚Ir tran 6R；=探測器電流應度(V/A)成。制造，加鍍層提供從12.5微米到24微米的
R；=反饋電阻(Q)連續掃描。這扇形需要一個鍍層的鍺擋板串理論的噪音當量光譜輻照在22微米由下式給出：
放大器是直流復位型。一個參考發生器，包括一個分劃板和連在一起的燈和光電管安裝在瀘光器驅動軸上，產生電脈沖驅動邏輯線
(W厘米-2球面度-1微米-1)路。輸出提供直流復位控制，瀘光器位置參考信號，和內部發射器(系統激勵)控制。LWIR-CVF分光計所用前置放大器在其中4f=噪音帶寬(赫)AQ=光學流量(厘米球面度)見表「丁，=光學透射率(見表Ⅰ和表Ⅱ)41=光學帶寬(微米)。文獻2>中已描述過。TIA前置放大器包括兩部分輸入裝置是一個面結型場效應裝置(JFET) ， Silicon ix2N 5199， 它安裝在一個特殊溫度控制的標準件上、在氨冷指上探測器鄰近。輸入JFET.偶提供一個平衡輸入給輔助前置放大器，這前置放大器是集成線路操作放大器741型，安裝在后端(熱)電低溫設計這儀器的設計是為一個Black B vantIVB或VC火箭的發射程序相適應的。這要求能靠近通風口和抽真空口。當火箭在發出軌道上的水平位置時儀器可以維護。發射時火箭要豎起在直立位置。還需要儀器可繼續子儀器室的。傳遞函數電阻R：安裝在冷前置放大器標準件上，那里它可以被冷卻。這分光計選用—―直流復位系統因為它一個時間操作允許射出火箭進入極光活動區，這樣分光計需要保持四小時可以操作，以便從水平位置移到直立位置時處于低溫狀和對稱斬波比較相對簡便。比高頻對稱斬波法的主要優點足直流復位系統中探測器前置放大器頻率響應不需高于*后低通濾波器。此外在直流復位系統中斬波因素是一，這和對稱斬波比較給出信噪比改進2倍163.況。
液氦杜瓦瓶是按習慣照低溫企業聯合會USU設計規格用鋁制造的，具備重量輕、熱傳導好的特點。氨容器和光學室由熱絕緣塑料管
標定支撐的。不銹鋼和通風管用壓力粘合的鋼一鋁鈕子焊到鋁上。冷外罩是用氣體冷卻的，在全氦設計中避免了液氮的需要。通風口是一個很敏感的低溫冷卻的輻射度量或光譜度量系統要進行標定需要特殊技術。這里因為儀器對熱窗口和環境背景輻射能級要響
應并因必須在操作和檢驗過程中維持真空絕緣的原故。隔熱的旋轉閂型，為了消除液氦杜瓦瓶在通風過程中霜的積累。跟低溫聯系的**設計問題是CVF的適當冷卻與光學部件的熱接觸可以通過用氨在孔徑中使用安裝的針孔來減少儀器對環境背景的靈敏度、曾往用來允許進行多少是常規的檢測標定'71。可是這標定需要幾次外推法來得出“擴展源”的響應，并且違反了通常原則：標定測量應在盡可能完整地復現根據標定進行測量的環境的條件下進行8。由于使用針孔造成的分辨率和有效孔徑面積等問題是*難使視場的更換達到合格的程度。儀器設計了測量擴展源，就是以外空間氣對流的熱沉13.4來完成。可是這要求特別大口徑的光學窗能經得起反復冷卻和升溫不碎裂也不破壞真空密封。甚至氦氣有小點漏進杜瓦瓶的絕緣真空、將造成低溫失效。因此費了不少力量設計了一個高熱傳導的滾珠軸承， 使旋轉的CVF冷卻。電子設計為背境的上空(天頂)的大氣譜輻射率。模擬空間條件是把儀器耦合到含有大面
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